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产品先容

NF-300H TEOS 装备为自主研发的产品 ,主要应用于沉积时间需求长的薄膜工艺 ,在匀称性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现手艺突破 ,装备性能指标达同类产品水平。


产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可知足沉积时间需求长的薄膜工艺
- 知足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可举行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功效
- 通过S2清静认证

 
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