产品先容
NF-300H TEOS 装备为自主研发的产品,主要应用于沉积时间需求长的薄膜工艺,在匀称性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现手艺突破,装备性能指标达同类产品水平。
产品特点 - 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换 - 可知足沉积时间需求长的薄膜工艺 - 知足300-600℃高温沉积需求 - PM腔内可举行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功效 - 通过S2清静认证